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东莞市华创研磨材料有限公司

研发、产销:研磨抛光材料;工业设备的研发与销售,工业清洗及表面处理材料的研发与销...

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二氧化硅抛光液
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产品: 浏览次数:172二氧化硅抛光液 
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发货期限: 自买家付款之日起 天内发货
有效期至: 长期有效
最后更新: 2018-07-03 16:34
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详细信息
产品介绍:

该产品是引进日本FUJIMI公司和美国杜邦(DUPON)公司配方专利生产,适用于半导体材料如硅片,锗单晶片,砷化镓晶片,
硬盘玻璃,蓝宝石晶片,碳化硅晶片的(CMP)化学表面抛光工艺,具有去除速率高
使用方便抛光效果好等特点。抛光
后晶片表面的粗糙度
可以达到
0.2um以下,同时可以提高晶片的粗糙度和平行度等,而且无划伤,无抛光雾。该产品是替代
进口产品的最佳选择


产品特征:

1.去除速率高:硅片的单位去除率可以达到0.9-1.2um/min,降低抛光工艺所需要的时间,提高生产效率;可循环使用,稀释比例大。

2.使用方便:本抛光液适用于通用的抛光工艺。

3.抛光效果好:抛光表面粗糙度好无划伤,不会出现抛光雾

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